鉬旋轉靶

鉬旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，裏面裝有靜止不動的磁體，以慢速轉動。

鉬旋轉靶的使用溫度是1800°C，最高使用溫度是2310°C，密度是19.2克/立方釐米，純度是99.95%。

鉬旋轉靶具有較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性、高電導率、高熔點的性能。主要用於石英連熔、玻璃熔煉、真空爐和高溫爐內以及保溫材料的板電極等行業。

鉬旋轉靶是提高鉬濺射靶材利用率的一種方法。 相比鉬平面靶材，採用鉬旋轉靶結構的設計顯示出鉬濺射靶材的實質性優勢。靶的壽命定義為濺射功率乘以濺射時間，或者是能在基板上澱積材料的總厚度 。從鉬平面靶到鉬旋轉靶在幾何結構和設計上的變化增加了靶材的利用率，利用率從鉬平面靶的30% ～ 50%可增加到鉬旋轉靶的> 80%。 此外，如果以濺射功率乘以濺射時間來衡量靶材料的壽命，則鉬旋轉靶的壽命要比鉬平面靶長5倍。由於鉬旋轉靶在濺射過程中不停地旋轉，所以在它的表面不會產生重沉積現象。