钼溅射靶材
钼溅射靶材：
密度10.2克/立方厘米
熔点2610℃。沸点5560℃
纯度：99.9% ，99.99%
规格：圆形靶，板靶，旋转靶
钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。
钼溅射靶材的形状可以是圆形，矩形管。钼溅射靶材生产工艺一般包括烧结，锻造，工装和接地等。
钼溅射靶材用于平板显示器，微电子，数据存储，光学玻璃镀膜等行业。它是在真空镀膜，如装饰材料，五金工具，镜片镀膜等行业应用广泛。
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