钼靶的存储应用

钼靶具有高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能，同时钼靶的纯度高，在存储技术方面，高密度、大容量硬盘的发展，需要大量的高纯度钼靶薄膜材料。

众所周知，钼溅射靶材的技术发展趋势与下游应用产业的薄膜技术发展趋势息息相关，随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进，钼溅射靶材技术也应随之变化。在存储技术方面，高密度、大容量硬盘，高密度的可擦写光盘的需求持续增加，这些均导致应用产业对钼溅射靶材的需求发生变化。