鉬濺射靶材
鉬濺射靶材：
密度10.2克/立方釐米
熔點2610℃。沸點5560℃
純度：99.9% ，99.99%
規格：圓形靶，板靶，旋轉靶
鉬靶材廣泛用於導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業，適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統。
鉬濺射靶材的形狀可以是圓形，矩形管。鉬濺射靶材生產工藝一般包括燒結，鍛造，工裝和接地等。
鉬濺射靶材用於平板顯示器，微電子，數據存儲，光學玻璃鍍膜等行業。它是在真空鍍膜，如裝飾材料，五金工具，鏡片鍍膜等行業應用廣泛。
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