sputtering target molybdenum
molybdenum chinatungsten sputtering target
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モリブデンスパッタリングターゲット

モリブデンスパッタリングターゲットは、ターゲットモリブデンすなわち、高規格の製品であり、金属銀の表面光沢、色モリブデンスパッタリングターゲットは厳しい純度要件であり、それは常に99.95%以上である。光沢面条件は厚依存性に応じて、明るいまたは熱間圧延条件を提供することができる。

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モリブデンスパッタリングターゲットの形状は、円形、矩形パイプであってもよい。モリブデンスパッタリングターゲットは、焼結、鍛造、ツーリングや地面のための定期的なプロセスである。


フラットパネルディスプレイ、マイクロエレクトロニクス、データストレージ、光学ガラスコーティングや他の産業のためのモリブデンスパッタリングターゲット。それは、真空コーティングの装飾材料、ハードウェアツール、レンズコーティングなどのようなものである。

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