钼旋转靶

钼旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。

钼旋转靶的使用温度是1800°C，最高使用温度是2310°C，密度是19.2克/立方厘米，纯度是99.95%。

钼旋转靶具有较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性、高电导率、高熔点的性能。主要用于石英连熔、玻璃熔炼、真空炉和高温炉内以及保温材料的板电极等行业。

钼旋转靶是提高钼溅射靶材利用率的一种方法。 相比钼平面靶材，采用钼旋转靶结构的设计显示出钼溅射靶材的实质性优势。靶的寿命定义为溅射功率乘以溅射时间，或者是能在基板上淀积材料的总厚度 。从钼平面靶到钼旋转靶在几何结构和设计上的变化增加了靶材的利用率，利用率从钼平面靶的30% ～ 50%可增加到钼旋转靶的> 80%。 此外，如果以溅射功率乘以溅射时间来衡量靶材料的寿命，则钼旋转靶的寿命要比钼平面靶长5倍。由于钼旋转靶在溅射过程中不停地旋转，所以在它的表面不会产生重沉积现象。