• Главная /
• Молибден Распыление Целевые в PVD метод

Молибден Распыление Целевые в PVD метод

Распыление является методом PVD для производства тонких пленок посредством испарения твердого материала мишени (так называемый распыляемой мишени) посредством эрозивный плазмы и осаждение испаренного материала мишени на поверхности подложки, образуя тонкую пленку. Таким образом, молибден распыляемой мишени является продуктом с сбалансированное распределение матрицы, которые могут быть использованы в методе PVD, чтобы иметь хороший результат теста.

Осаждение источника магнитного катода с металлической пластиной (цель - изготовлен из молибдена, что он должен передавать), установленных на нем.

В процессе распыления аргоновой плазме воспламеняется в вакуумной камере и аргона ускор ютс в направлении катода отрицательно заряженных (а именно, молибден распыляемой мишени) посредством электрического поля. Ионов аргона попасть в цель с высокой кинетической энергией, в результате чего излучения атомов материала мишени. Эти атомы диффундируют через вакуумную камеру и конденсируются в виде тонкого слоя на подложке.

Это система осаждения металла первоначально использовались только на поверхности, поверхности уровня, а теперь она применяется и на трехмерный части, но с легким форм и структур.

Магнитное катод, как правило, расположены на одной стороне процесса камере. Подложки вращать перед источником. Когда будет достигнуто необходимое значение вакуума оно установлено высокое напряжение, и это вводится газ аргон.

Аргона положительные ионы подверглись ускорения процесса на отрицательной катодом и благодаря тому, что они изгнать атомов молибдена распыляемой мишени.

Все процессы, предназначенные для обеспечения постоянного наличия молибдена распыляемой мишени, которая отвечает требованиям наших клиентов. Мы обеспечиваем долгосрочную доступность сырья, постоянно работать над развитием новых продуктов и размеров геометрии и адаптировать наши производственные мощности для потребностей наших клиентов объеме.