Molibden Püskürtme Hedef PVD yöntemi

Püskürtme erosif Plazma ile katı hedef madde (sözde püskürtme hedefinin) uçucu ve ince bir film tabakası oluşturan alt-tabakanın yüzeyi üzerine buharlaştınldı hedef madde yatırma vasıtasıyla ince filmlerin imalatı için bir PVD yöntemdir. Bu nedenle, püskürtme hedef molibden iyi bir test sonucu elde etmek için PVD yöntemi de kullanılabilir dengeli bir dağılımı ile kalıp ürünüdür.

Yüklü - kaplama kaynağı metal bir plaka (bu yatırmak için gerekli olduğunu molibden yapılmış hedefi) ile bir manyetik katot olduğunu.

Pulverizasyon süreci içinde argon plazma bir vakum odasında ateşlenir ve argon iyonları, bir elektrik alanı vasıtasıyla bir negatif yüklü bir katot (yani püskürtme hedef molibden) doğru hızlandırılırlar. Argon iyonları hedef maddenin atom emisyon sonuçlanan, yüksek kinetik enerji ile hedefi vurdu. Bu atomlar alt tabaka üzerinde ince bir tabaka olarak vakum odası ve yoğunlaşmasına yoluyla yayılır.

Bunun yerine şimdi üç boyutlu parçaları üzerinde ama kolay şekil ve yapıları ile de uygulanmış, aslında sadece düz yüzeylerde olduğu yüzeylerde kullanılan bir metal birikimi sistemdir.

Manyetik katot genel işlem odası bir tarafında yer alır. Substratlar kaynağının önünde döndürün. Ne zaman bir yüksek gerilim ayarlanmıştır gerekli vakum değerine ulaşıldığında ve argon gazı enjekte ediyor.

Argon pozitif iyonlar negatif katot bir hızlanma süreci ve nedeniyle onlar molibden püskürtme hedeften atomların sınırdışı buna geçirmiş vardır.

Tüm işlemler müşterilerimizin gereksinimlerini karşılayan molibden fışkırtması hedef sürekli durumu sağlamak için tasarlanmıştır. Biz hammadde uzun vadeli durumu güvenli, sürekli yeni ürün boyutları ve geometrileri geliştirmek ve müşterilerimizin hacim gereksinimleri için üretim kapasitesi uyum için çalışıyoruz.