molybdène Cible de pulvérisation en PVD Méthode
Pulvérisation cathodique est un procédé PVD pour la fabrication de films minces au moyen d'évaporation de matériau cible solide (la cible de pulvérisation cathodique ainsi appelé) au moyen d'érosion par plasma et le dépôt du matériau de la cible évaporée sur la surface du substrat en formant une couche de film mince. Par conséquent, le molybdène cible de pulvérisation est le produit de la distribution de la matrice équilibré qui peut être utilisé dans la méthode PVD d'avoir un bon résultat.
La source de dépôt est une cathode magnétique avec une plaque métallique (cible - en le molybdène qu'il est tenu de déposer) est installé.
Dans le procédé de pulvérisation par plasma d'argon est mis à feu dans une chambre à vide et des ions d'argon sont accélérés en direction d'une cathode chargée négativement (à savoir le molybdène cible de pulvérisation) au moyen d'un champ électrique. Les ions d'argon atteint la cible avec une énergie cinétique élevée, ce qui entraîne l'émission d'atomes de la matière cible. Ces atomes se diffusent à travers la chambre à vide et se condensent sous forme de couche mince sur le substrat.
C'est un système de dépôt de métal utilisé à l'origine uniquement sur des substrats avec des surfaces de niveau, au lieu maintenant elle est appliquée également sur des pièces tridimensionnelles mais avec des formes et des structures simples.
La cathode magnétique est généralement située sur un côté de la chambre de traitement. Les substrats tournent en avant de la source. Quand on atteint la valeur de vide requis il est mis une haute tension et il est injecté du gaz argon.
Les ions positifs d'argon sont subies à un processus d'accélération sur la cathode négative et en raison de ce qu'elles expulsent les atomes de molybdène cible de pulvérisation cathodique.
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