磁控溅射钼靶

简介

磁控溅射钼靶的纯度为99.95%，密度10.2克/立方厘米，熔点2610℃，沸点5560℃。

性能

磁控溅射钼靶具有强度大、耐高温、耐磨损、耐腐蚀等多种优良性能。  

类型

矩形磁控溅射钼靶、圆形磁控溅射钼靶和圆柱管磁控溅射钼靶。  

工作原理

磁控溅射钼靶的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使钼靶发生溅射。  

用途

磁控溅射钼靶主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。